氧化铁(III),Puratronic, 99.998% (metals basis) 1309-37-1 25g

4-氯-3-硝基吡啶, 95%, 可能含有少量的低聚物 13091-23-1 5g

4-溴-3,5-二甲基-1-苯磺酰基-1H-吡唑, 95% 130874-32-7 250mg

四氧化三钴(II,III), Puratronic, 99.9985% (metals basis) 1308-06-1 10g

硒化钴(II), 99+% (metals basis) 1307-99-9 50g

N^a-Fmoc-D-精氨酸, 95% 130752-32-8 250mg

2-溴-6-硝基酚,97% 13073-25-1 5g

碲化铋(III), 真空沉积级, 99.999% (metals basis) 1304-82-1 10g

氧化铋(III), Puratronic, 99.9995% (metals basis) 1304-76-3 50g

氧化硼, Puratronic, 99.999% (metals basis) 1303-86-2 100g

氢氧化金, Au 79% 1303-52-2 1g

砷化铟, 99.9999% (metals basis) 1303-11-3 2g

双(1,5-环辛二烯)铑(I)六氟化锑盐 130296-28-5 0.25g

(1-丁基)三乙基溴化铵,97% 13028-69-8 100g

(氯代[(S)-(-)-2,2'-二(二苯基膦)-1,1'-联萘](P-伞花素)氯化钌 130004-33-0 250mg

2-甲氧乙氧基锌, 5% w/v 2-甲氧基乙醇溶液 129918-15-6 25ml